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高纯金属纯度控制及提纯技术 2015-02-05     总浏览:10861

由于金属材料中的杂质会影响半导体芯片等下游产品的导电性能,因此,溅射靶材对金属材料的纯度提出了相当高的要求。公司通过自主研发和合作研发,已经具备生产高纯度的溅射靶材用金属材料(铜纯度≥99.9999%;铝、钛纯度≥99.999%;钽纯度≥99.99%)的技术能力,大大提升企业的市场竞争力。

     江丰电子生产的溅射靶材,其纯度水平达到以下级别:

序号

材质

纯度

1

Al

≥99.9995%

2

Ti

≥99.999%

3

Ta

≥99.99%

4

Cu

≥99.9999%

5

W

≥99.999%

6

Mo

≥99.99%

7

Co

≥99.999%


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