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  ICP-OES 通过高频装置使氩气电离，形成温度可达10000k的等离子焰炬。激发产生不同的发射光谱，并依照此原理进行痕量元素的定量测定。该设备具有独特的智能光谱组合 (DSC) 技术，能够实现同步的水平和垂直测量。能够以少的氩气用量分析最具挑战性的样品，检测速度快、效率高，并且不会对分析性能造成任何影响。ICP-OES可分析78种元素，精密度高、相对标准偏差小、定量范围宽，检测精度可从ppb级别到百分比级别。由于等离子体温度极高，因此化学干扰少。适合用于食品、环境、金属中的痕量元素和部分非金属元素的分析。同时也可测试基体中含有有机溶剂的样品或者直接测试油品等有机样品。

  直读光谱仪适用于钢铁、铝、镁、铜、锌、锡、钛等各种固体金属的基体金属、合金中的组成元素、杂质微量元素的定量。应用于这些金属的冶炼工业和机械加工工业的工程管理分析、原材料验收以及产品出厂鉴定分析等。该设备的特点在于：1、可多元素同时检测；2、分析速度快；3、准确度高；4、设备的波长范围是130nm~500nm，对各种金属杂质的检测限度可达10ppm。

  液体颗粒计数器（LPC）是微粒计数领域质量控制和研究应用中的佼佼者。当液体中的微粒通过窄小的检测区时，由于被不溶性微粒阻挡从而使传感器输出信号发生变化。依照此原理，LPC可以准确检测出待检样品中微粒数量。检测精准，流速可控，可以处理全范围的样品体积，从1毫升到大于1000毫升均能实现精准测量；检测范围广，通过可互换的传感器，实现从0.5μm到600μm的颗粒粒径业界最小的样本检测；同时LPC操作简单，取样方便，广泛应用于医药级科研测试以及金属中不溶物的检测领域当中。

  在半导体领域中，磁控溅射镀膜工艺对靶材所含的气体和夹杂异常敏感，因为气体和夹杂会导致等离子体异常放电和显微颗粒的喷射，破坏和降低溅射薄膜质量，导致薄膜缺陷增加，控制溅射靶材中气体和夹渣对控制溅射薄膜质量有巨大影响。本公司拥有美国LECO公司的最新型号的三台气体分析仪，分别为CS844，ON836，RHEN602，可以用于高纯金属材料当中气体元素的检测。三台分析仪的优点是1.分析速度快2.准确性高 3.气体元素含量检测限低，CSON元素能达到1ppm，H含量能达到0.1ppm级别 4.具有较高的自动化配置，自动清扫装置，外加分析界面的触摸屏和灵活适用的软件，对返工样品可插入操作，不需要重新输入试样标识等。

   扫描电镜主要是利用二次电子信号成像来观察金属或非金属材料的表面形态。该仪器对样品尺寸及形状没有限制，可直接观察大试样的原始表面，粗糙表面也能观察，免除了制备样品的麻烦，而且能真实观察试样本身物质成分不同的衬度。景深较大，可用于观察材料断口，所得图像富有立体感，可获取更多的细节信息。样品室的空间较大，试样可在三度空间内有6个自由度（即三度空间平移、三度空间旋转）活动。

  OxfordEDX是根据入射电子使内层电子激发，产生特征X射线来定性分析元素种类及含量。该技术的特点是：1.快速，"初步"成分分析；2.多功能、便宜，广泛适用；3.进行某些样品的定量分析（平坦、抛光和均匀）；

  Oxford EBSD主要特点是在保留扫描电子显微镜的常规特点的同时进行空间分辨率亚微米级的衍射。在扫描电子显微镜（SEM）中，入射于样品上的电子束与样品作用，在每一个晶体或晶粒内规则排列的晶格面上产生衍射。从所有原子面上产生的衍射组成"衍射花样"可用于EBSD相鉴定。通过EBSD技术，检测材料的晶粒取向、取向差、晶界属性分析、借助层切技术的3D组织重构、晶粒内部取向梯度等,以及与菊池花样相关的拓展应用,如缺陷密度评价、物相分析等。

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